
在半導(dǎo)體先進制程持續(xù)迭代的今天,深紫外(DUV)光刻、化學(xué)機械研磨(CMP)、濕法刻蝕、離子注入等關(guān)鍵工藝,對環(huán)境潔凈度提出近乎苛刻的要求。氨氣(NH?)、鹽酸(HCl)、(HF)、NO?、TVOCs等痕量級空氣分子污染物(AMC),即便濃度低至 ppb 量級,也會引發(fā)光刻膠中毒、關(guān)鍵尺寸(CD)漂移、晶圓缺陷等問題,直接影響產(chǎn)品良率與長期可靠性。
杜克泰克 DK?S4500F?AMC 痕量級空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng),基于腔增強吸收光譜(CEAS) 核心技術(shù),融合多路徑高精度檢測方案,實現(xiàn)sub?ppb 級、秒響應(yīng)、全天候連續(xù)監(jiān)測,為半導(dǎo)體潔凈環(huán)境提供穩(wěn)定可靠的污染監(jiān)控解決方案。
系統(tǒng)采用多技術(shù)集成設(shè)計,覆蓋酸性、堿性、有機類等典型 AMC 污染物,滿足先進制程全場景監(jiān)測需求:
EIMS 增強離子遷移譜:精準檢測 Ma 類污染物(HF、HCl、HNO?等),電離?遷移?探測三步定量,信號與濃度線性對應(yīng),數(shù)據(jù)穩(wěn)定可信。
紫外脈沖熒光法:專項監(jiān)測 NH?與 NO?,光學(xué)反應(yīng)室配合高靈敏光電倍增管,檢出限<0.1ppb。
增強型 GC?FID/GC?PID:高效分析 MC 類污染物(DOP、DBP、DEP、BHT、TVOCs 等),以氫火焰離子化原理實現(xiàn)準確定量。
核心氣體檢測限低至0.1ppb,NH?<0.1ppb,量程比達 1:100000,準確度 ±2%,單通道響應(yīng)時間僅5 秒,真正做到微量污染 “早發(fā)現(xiàn)、準測量、快響應(yīng)"。
面向半導(dǎo)體廠區(qū)嚴苛環(huán)境,系統(tǒng)以高可靠性為核心:
全固態(tài)電子器件,無可移動部件,故障率低、抗干擾能力強。
出廠完成標定,免現(xiàn)場頻繁校準,長期穩(wěn)定性優(yōu)異。
斷電數(shù)據(jù)不丟失,2GB 大容量存儲可連續(xù)保存2 年數(shù)據(jù)(15 秒采樣間隔)。
低維護量、長免維護周期,大幅降低運維成本與停機風(fēng)險。
采樣管路采用 PFA、PVDF 防腐材質(zhì),搭配低吸附 SiO?涂層不銹鋼閥組,采樣距離最遠可達80 米,全程低損耗、無二次污染。
系統(tǒng)支持4~64 通道多點采樣,通道數(shù)可按現(xiàn)場需求自由選配,每個通道采樣時間 1~99min 獨立可編程,可自定義吹掃與采樣順序,滿足光刻區(qū)、工藝機臺、廠務(wù)風(fēng)路等多點同時監(jiān)控。適配場景覆蓋:
DUV 及先進光刻區(qū) AMC 實時監(jiān)控
CMP 與濕法刻蝕區(qū)域酸性 / 堿性氣體監(jiān)測
離子注入、薄膜沉積區(qū)域 AMC 控制
廠務(wù)送風(fēng) / 回風(fēng)溯源、過濾器效能管理
配備7 英寸觸摸屏,支持數(shù)值、表格、趨勢曲線多形式展示,界面直觀易操作。系統(tǒng)提供RS232、4?20mA、Modbus等開放通訊協(xié)議,可快速接入 MES / 廠務(wù)監(jiān)控系統(tǒng),支持遠程操作與數(shù)據(jù)可視化管理。數(shù)據(jù)支持 U 盤、USB、以太網(wǎng)、串口多種方式導(dǎo)出,便于追溯、分析與合規(guī)存檔,同時配備獨立可編程報警與繼電器輸出,異常即刻響應(yīng),保障生產(chǎn)安全。
檢測下限:HF/HCl/NO?等0.1ppb,NH?<0.1ppb
響應(yīng)時間:單通道5 秒
準確度:±2%
通道數(shù):4~64 通道可選
采樣距離:最遠80 米
工作電源:115–230Vac 50/60Hz
數(shù)據(jù)存儲:約 2GB,可存2 年連續(xù)數(shù)據(jù)
DK?S4500F?AMC痕量級空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)以超痕量檢測、高穩(wěn)定運行、全域化覆蓋、智能化管理,成為半導(dǎo)體先進制程AMC監(jiān)測的優(yōu)選方案,助力企業(yè)提升良率、保障品質(zhì)、控制風(fēng)險。
杜克泰克|以精準監(jiān)測,守護半導(dǎo)體潔凈未來